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    1、 主要用途:(1) 這是一台雙麵對準單麵曝光的光刻機;(2) 這台機器又能完成普通光刻機的任何工作;(3) 同時又是一台檢查雙麵對準精度的檢查儀。2、 主要性能指標:(1) 高均勻蠅眼曝光頭。a、

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    一、主要用途:(1) 這是一台雙麵對準單麵曝光的光刻機;(2) 這台機器又能完成普通光刻機的任何工作;(3) 同時又是一台檢查雙麵對準精度的檢查儀。二、主要性能指標:(1) UV-LED紫外燈平行光光

  • G-33B4型高精密雙麵光刻機
    G-33B4型高精密雙麵光刻機

    一、主要用途:(1) 這是一台雙麵對準單麵曝光的光刻機;(2) 這台機器又能完成普通光刻機的任何工作;(3) 同時又是一台檢查雙麵對準精度的檢查儀。二、主要性能指標:(1) 高均勻性曝光頭。a、 采用

  • G-31B6型高精密雙麵光刻機
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    一、主要用途主要用於中小規模集成電路、半導體元器件、光電子器件、聲表麵波器件、薄膜電路、電力電子器件的研製和生產。二、設備主要性能指標:1、工作台行程(X向、Y向/Z向/θ向):±5mm/10mm/±

  • G-31B4型高精密雙麵光刻機
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    一、主要用途主要用於中小規模集成電路、半導體元器件、光電子器件、聲表麵波器件、薄膜電路、電力電子器件的研製和生產。二、主要性能指標:曝光類型:版版對準雙麵曝光曝光麵積:≥φ100mm曝光不均勻性:≤±

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    一、 主要用途:本設備是我公司專門針對各生產單位對光刻機的使用特性研發的一種精密光刻機,它主要用於中小規模集成電路、半導體元器件、光電子器件、聲表麵波器件的研製和生產。二、 主要性能指標1、曝光類型:

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    一、 主要用途:本設備是我公司專門針對各大專院校及科研單位對光刻機的使用特性研發的一種精密光刻機,它主要用於中小規模集成電路、半導體元器件、光電子器件、聲表麵波器件的研製和生產。二、 主要性能指標1、

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